透明導電薄膜的種類有很多，但具有實際應用價值的還是氧化物膜占主導地位，例如氧化銦錫薄膜（Indium-Tin-Oxide，簡稱為ITO薄膜），ITO透明導電薄膜是用物理或化學的方法在基體表面上沉積得到的，基體材料一般采用超薄玻璃，故又稱之為ITO透明導電薄膜玻璃。

ITO透明導電薄膜玻璃是國際上70年代初研制成功的一種新型材料，屬信息產(chǎn)業(yè)領(lǐng)域廣泛使用的電氣、電子玻璃家族中的一員，在信息產(chǎn)業(yè)中有著重要的地位。透明導電薄膜玻璃作為平面顯示器行業(yè)的上游產(chǎn)品，其應用面極廣，不但是LCD（液晶顯示器）中的關(guān)鍵組件，還可在其它高階平面顯示器中作為透明玻璃電極，并與民用消費產(chǎn)品（諸如建材、汽車、電視等）息息相關(guān)，其工藝更可進一步延伸為市場所需的任何導電玻璃的生產(chǎn)。

透明導電薄膜具有以下特性：

? 導電性能好，電阻率可達10－4Ω﹒cm；

? 硬度高、耐磨、耐化學腐蝕；

? 加工性能好；

? 可見光透過率高，可達85％以上；

? 對紫外線具有良好的吸收性，吸收率不小于85％；

? 對紅外線具有良好的反射性，反射率不小于80％；

? 對微波具有衰減性，衰減率不小于85％。

ITO透明導電薄膜玻璃的生產(chǎn)有三個必備條件，即：鍍膜設備、ITO靶材和透明超薄玻璃（0.4－1.3mm）。ITO透明導電薄膜制備是工藝的核心技術(shù)，它可以采用多種方法，主要有有磁控濺射法（直流磁控濺射和射頻磁控濺射）、真空蒸發(fā)法（電阻加熱或電于束加熱）、浸漬法、化學氣相沉積法、噴涂法等5種工藝。目前采用較廣的是直流磁控濺射法，用該工藝進行連續(xù)鍍ITO膜層，具有膜層厚度均勻、易控制、膜重復性好、穩(wěn)定、適干連續(xù)生產(chǎn)、可鍍大面積、基片和靶相互位置可按理想設計任意放置、可在低溫下制取致密的薄膜層、可采用合金靶反應濺射、也可采用氧化靶直接濺射等諸多優(yōu)點。該工藝適用干大規(guī)模工業(yè)化生產(chǎn)，ITO透明導電薄膜玻璃質(zhì)量好，規(guī)格品種多，耗能低。

首先備好規(guī)定厚度尺寸的（0.4－1.3mm）超薄玻璃片，預處理經(jīng)去離于水洗、超聲波潔凈，進入真空室后，先進行SiO2鍍制，然后進入ITO鍍膜室鍍制ITO膜，經(jīng)加熱固化退火后獲得成品。ITO導電膜玻璃全工藝過程均在高真空狀態(tài)下潔凈無塵通入Ar（氬）和O2（氧）氣體，經(jīng)過磁控濺射作用，在玻璃基片表面沉積氧化鋼錫薄膜及加熱退火后而制成。