磁控濺射鍍高純鎢是一種先進(jìn)的薄膜制備技術(shù)，廣泛應(yīng)用于電子工業(yè)、材料科學(xué)以及多個(gè)工業(yè)領(lǐng)域。

一、技術(shù)原理

磁控濺射鍍膜的原理是在一定的氣體氛圍下（如Ar氣氛圍），對(duì)靶材料（在此為高純鎢）施加一定的電壓（功率），電子在向靶材移動(dòng)的過(guò)程中與Ar氣發(fā)生碰撞，導(dǎo)致電離現(xiàn)象。此時(shí)，Ar離子會(huì)轟擊靶材表面，將表面的靶原子（鎢原子）濺射脫離靶材，并在基底上沉積形成薄膜材料。

二、技術(shù)特點(diǎn)

1. 高純度：磁控濺射技術(shù)能夠制備出高純度的鎢薄膜，這對(duì)于需要高純度材料的電子器件和精密儀器至關(guān)重要。
2. 均勻性：通過(guò)磁場(chǎng)的準(zhǔn)確控制，鎢原子能夠均勻地沉積在基底上，形成均勻、致密的鍍層。
3. 可控性強(qiáng)：濺射過(guò)程中的多個(gè)參數(shù)（如電壓、電流、磁場(chǎng)強(qiáng)度、工作壓強(qiáng)、濺射時(shí)間等）均可調(diào)整，以實(shí)現(xiàn)對(duì)薄膜厚度、成分和微觀結(jié)構(gòu)的準(zhǔn)確控制。
4. 附著力強(qiáng)：濺射的薄膜與基板之間具有良好的附著力，提高了薄膜的穩(wěn)定性和可靠性。
5. 環(huán)保無(wú)污染：磁控濺射過(guò)程在真空環(huán)境下進(jìn)行，不產(chǎn)生廢液、廢渣和廢氣等污染物，符合環(huán)保要求。

三、應(yīng)用領(lǐng)域

磁控濺射鍍高純鎢技術(shù)因其優(yōu)異的性能而廣泛應(yīng)用于多個(gè)領(lǐng)域：

1. 電子工業(yè)：用于制造高耐熱、高導(dǎo)電、高耐腐蝕的電子元器件，如集成電路、傳感器、電阻器等。
2. 材料科學(xué)：用于制備具有特殊性能的薄膜材料，如超導(dǎo)薄膜、硬質(zhì)薄膜等。
3. 航空航天：用于制造高溫部件，如發(fā)動(dòng)機(jī)燃燒室、噴氣嘴等，以提高部件的耐高溫性能和耐磨損性能。
4. 汽車制造：用于制造耐磨、耐腐蝕的零部件，如發(fā)動(dòng)機(jī)缸套、活塞環(huán)等，以提高汽車的性能和可靠性。